超音波スプレーコーティング
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液体は、通常は重力または低圧ポンプによって、側面の入口からプローブに導入されます。 アプリケーションごとに異なるプローブがあります。 たとえば、フラットチッププローブは、特定の場所に粒子を集中させることができます。
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ワイドスプレー超音波霧化器は、噴霧範囲が広い超音波霧化ノズルです。 超音波霧化ノズル技術を採用し、特殊な流路設計によりキャリアガスを分散、方向転換することで、超音波霧化後の液体ミストが扇状に噴霧され、超音波ノズルの噴霧幅が広がります。
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ギャザースプレー超音波ノズルは、スプレー幅の狭い超音波噴霧ノズルです。 超音波噴霧ノズル技術を採用し、特殊収縮流路設計によりキャリアガスを均一に集めて分散させることで、超音波噴霧後の液体ミストを集束状に噴霧することで、超音波ノズルの噴霧面積を低減します。
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液体は、通常、重力または低圧ポンプによって、側面の入口を通してプローブに導入されます。アプリケーションごとに異なるプローブがあります。たとえば、平らな先端プローブは、特定の位置にパーティクルを焦点を合わせることができます。
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超音波アトマイザーは、低周波電気エネルギーを高周波電気エネルギーに変換する電源を有する。この電気エネルギーは、通常セラミック製の圧電トランスデューサーによって機械的振動に変換されます。
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液体は、通常、重力または低圧ポンプによって、側面の入口を通してプローブに導入されます。アプリケーションごとに異なるプローブがあります。たとえば、平らな先端プローブは、特定の位置にパーティクルを焦点を合わせることができます。
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