真空超音波スプレーノズル
真空フランジ超音波スプレーノズルは、超音波霧化技術と真空フランジ接続方式を組み合わせたノズルです。主に真空環境で霧化操作を行う必要がある状況で使用されます。
制品の詳細
真空超音波スプレーノズル
圧電トランスデューサは高周波音波を機械エネルギーに変換し、液体に加えて、ノズル先端にある塗布された液体の薄膜内に定在波を生成します。-液滴がノズルの霧化表面から離れると、ミクロンサイズの液滴の均一なミストに分解されます。-。液体は比較的大きなノズルの中心から入り、ノズル内の超音波振動によって圧力をかけずに液体が霧化されます。
パラメータ:

構造上の特徴
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繋がり:真空フランジ接続により、ノズルと真空装置間の密閉性が確保され、外気が真空システムに侵入して霧化効果や真空環境に影響を与えるのを防ぎます。
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材料:真空超音波スプレー ノズルの本体は通常、優れた音響特性、高い引張強度、耐食性を備えたチタンでできています。ハウジングもチタン製なので、あらゆる環境で使用できます。]
利点
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高い転写効率:材料使用量を削減し、微粒化材料の利用率を向上させます。
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詰まりがない:-ハイソリッド材料を扱うことができ、さまざまな種類の液体に適しています。{0}
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均一性が高い:霧化された液滴のサイズの変化は最小限であり、正確に予測された範囲内に分布するため、コーティングの欠陥が減少します。
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エアレススプレー:高圧空気による霧化を必要としないため、特に真空環境に適しており、真空条件下でも安定した霧化動作を実現できます。{0}{1}
アプリケーション
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材料の準備:太陽電池や燃料電池などのエネルギー用途で使用され、薄膜電極の準備や触媒の塗布に使用され、より均一な材料分布を確保し、電池の性能を向上させます。{0}真空コーティング: 真空コーティングプロセス中に、コーティング材料が霧化されて基材表面に均一に堆積され、コーティングの品質と均一性が向上します。
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半導体製造:フォトレジストやその他の材料をマイクロエレクトロメカニカル(MEMS)ウェーハにスプレーするために使用され、正確なコーティング塗布が可能になり、半導体製造の精度要件を満たします。
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科学的研究:真空超音波スプレーノズルは、液体の霧化特性や材料調製プロセスの研究など、真空環境での霧化実験が必要な研究プロジェクトに不可欠な機器です。
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